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荷兰ASML果然还是“露出了獠牙”，宣布为了顾及美国的颜面，暂停向中芯国际交付光刻机！最早的时候，ASML在2018年证实向中芯国际出售一台7nm EUV（极紫光线）技术光刻机，但是一场大火将这件事给无限期的拖延，我们其实也知晓，ASML应该不可能将光刻机出售给中国，果不其然，先是失火（是不是有意纵火？我们并不知晓），如今为了顾及美国颜面，直接暂停了交易，这确实让我们已经对国外的光刻机失去了所有的信心。
我们其实已经很轻松的知道，荷兰ASML可能压根就没有想过给中芯7nm的光刻机，为什么会答应呢？很明显，就是为了拖延我们在光刻机方面的发展。
所以，中芯国际不得不在这方面搁浅！那么，到底我国的光刻技术怎么样呢？带着这个疑问，我们一起来看一看。
目前，光刻行业中，可能上海微电子装备股份有限公司代表了行业顶尖水平，我们在这家公司的网站中，找到了光刻机的最新版本， SSA600/20使用的是90nm工艺制程。
这和ASML的差异确实越来越大，要知道ASML已经能够量产5nm制程，技术差距很大。
而且，我们其实也知道，国内的光刻机确实因为种种限制因素，而发展缓慢。我们也寄希望于中科院的光电所的研究，据说通过使用紫外超分辨光刻装备，采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米(约1/17曝光波长)。
我们也相信，在中科院，以及微电子等等企业的优势下，一定会有更好的未来。