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作者：Cheng Wang
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来源：知乎
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前面好多人提到集成电路，确实是集人类微加工技术之大成，不过这些加工技术基本上来说都是2D的，也就是平面的。（虽然集成电路实际上是立体的，但其实每一层的制造都是平面的，只是一层一层叠起来的，而且最精密的cmos层就只有最底下那一层，一般来说越往上线宽越粗）
所以说人类在制造任意三维物体的能力上其实相比集成电路这样的逆天精度来说可以说弱爆了。
接下来上主角。这货其实原理跟普通的光刻没什么太大差异，不同的是在于它用的是一个叫做双光子光刻的技术，也就是说比如材料对可见光敏感，我用二倍波长（一半频率）的光来激发。好处是这种非线性效应是跟光强的平方成正比的（而单光子光刻则是跟光强线性相关），因此当你聚焦一个激光束到某个地方的时候，只有旁边很小的一个区域的光强足以激发光刻胶，从而当你用一个三维扫描的激光束把你想要的区域曝光以后就能得到想要的三维图形。这个区域的大小基本上由光的波长决定，因此这种方法制造的三维结构最低精度可以达到亚微米尺度。