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从1999年的180nm工艺开始，英特尔一直保持着每两年更新一次工艺的步伐。然而在2015年7月，英特尔承认原计划在2016年问世的10nm将跳票至2017年下半年。不过结果显而易见，至今我们也没有见到10nm大规模量产。
虽然英特尔一直没有公开解释10nm一再跳票的原因。但其实不难理解，目前EUV极紫外光刻技术应用不够成熟，而且10nm工艺晶体管密度非常高，需要使用多重曝光技术，有些时候不得不使用五重乃至是六重曝光，这就导致生产流程加长、成本加高，因此良品率令人堪忧。
从1999年的180nm工艺开始，英特尔一直保持着每两年更新一次工艺的步伐。然而在2015年7月，英特尔承认原计划在2016年问世的10nm将跳票至2017年下半年。不过结果显而易见，至今我们也没有见到10nm大规模量产。
虽然英特尔一直没有公开解释10nm一再跳票的原因。但其实不难理解，目前EUV极紫外光刻技术应用不够成熟，而且10nm工艺晶体管密度非常高，需要使用多重曝光技术，有些时候不得不使用五重乃至是六重曝光，这就导致生产流程加长、成本加高，因此良品率令人堪忧。